Los sustratos de vidrio se limpiaron con ácido nítrico diluido, agua destilada y finalmente con acetona. El TiO2Las soluciones se depositaron mediante la técnica de pirólisis por pulverización sobre sustratos de vidrio a 450 °C durante 15 minutos co

Claro, a continuación, te presento una descripción del proceso de limpieza de los sustratos y la deposición del TiO₂ mediante la técnica de pirólisis por pulverización. ### Limpieza de los Sustratos de Vidrio 1. **Tratamiento con Ácido Nítrico Diluido**: Los sustratos de vidrio se sumergen o se tratan con ácido nítrico diluido (HNO₃) para eliminar impurezas, como residuos orgánicos y contaminantes inorgánicos. Este paso es crucial para asegurar que la superficie esté limpia y libre de cualquier material que pueda interferir con la adhesión de la película delgada. 2. **Lavado con Agua Destilada**: Después del tratamiento ácido, los sustratos se lavan con agua destilada para neutralizar los restos de ácido y eliminar cualquier contaminante adicional. El uso de agua destilada es importante, ya que evita la introducción de impurezas adicionales que podrían afectar el proceso de deposición. 3. **Enjuague con Acetona**: Finalmente, se utiliza acetona para eliminar cualquier traza de grasa o residuo orgánico. La acetona evapora rápidamente y ayuda a garantizar que la superficie del vidrio esté completamente limpia y lista para la deposición del TiO₂. ### Deposición de TiO₂ por Pirólisis por Pulverización 1. **Preparación de la Solución de TiO₂**: Se prepara una solución que contiene precursores de titanio, que típicamente puede incluir compuestos como el tetracloruro de titanio (TiCl₄) o el isopropóxido de titanio. La concentración y la composición de la solución son factores críticos que influyen en las propiedades finales del recubrimiento. 2. **Establecimiento de Condiciones de Deposición**: El sustrato limpio se coloca en un horno o cámara de deposición a una temperatura de 450 °C. Esta temperatura es esencial para facilitar la pirolisis de los precursores y la formación de la fase anatasa de TiO₂. 3. **Pirólisis por Pulverización**: - **Pulverización**: La solución precursora se pulveriza a través de un atomizador o nebulizador a una velocidad de 1 ml/min. Este proceso genera una niebla fina de gotas que se transporta mediante una corriente de gas (generalmente aire o nitrógeno) hacia el sustrato caliente. - **Condensación y Reacción**: Al llegar a la superficie caliente del sustrato de vidrio, las gotas se evaporan, lo que provoca que los precursores se descomponen térmicamente (pirólisis) y se polymericen formando una película delgada de TiO₂. Este proceso se basa en la reacción de descomposición de los compuestos de titanio que forman TiO₂ en su fase anatasa. - **Tiempo de Deposición**: El proceso se controla durante 15 minutos, permitiendo que se forme una película uniforme sobre el sustrato. 4. **Enfriamiento**: Tras completar el proceso de deposición, los sustratos se enfrían lentamente a temperatura ambiente, lo que permite que la estructura cristalina se estabilice y lo prepara para su posterior caracterización y aplicación. ### Resultados Esperados El proceso de pirólisis por pulverización debe resultar en una película delgada de TiO₂ de fase anatasa que posea propiedades adecuadas para aplicaciones en electrónica, fotocatálisis, o como recubrimiento funcional, dependiendo de los requisitos específicos de su uso. ### Consideraciones Finales La calidad de las películas delgadas producidas depende de varios factores, como la pureza de los precursores, la temperatura de sustrato, las condiciones de pulverización y el tiempo de deposición. La caracterización posterior mediante técnicas como difracción de rayos X (XRD), espectroscopia de fotoelectrones de rayos X (XPS) y microscopia electrónica de barrido (SEM) es recomendable para evaluar las propiedades físicas y químicas de las películas obtenidas.